专利简介：

      本发明公开了一种聚碳酸酯光学材料表面有机硅耐磨涂层的制备方法。包括如下步骤：1) 基底涂层的涂覆，将基底涂料在洁净环境中涂覆于聚碳酸酯光学材料表面，20～100℃下干燥20～60分钟；2) 中间涂层的涂覆，中间涂层涂料在洁净环境中涂覆，20～100℃下干燥5～120分钟；3) 耐磨涂层的涂覆，耐磨涂层涂料在洁净环境中涂覆，20～100℃下干燥30～300分钟，得到有机硅耐磨涂层处理的聚碳酸酯光学材料。本发明制备方法制得的硬质透明耐磨涂层具有优良的耐磨性能、耐候性能、光学性能，可明显提高聚碳酸酯光学材料的表面性能，延长其使用寿命，可应用于聚碳酸酯镜头、镜片等的表面改性

      本项目于2009年4月22日获中华人民共和国国家知识产权局发明专利，专利号：ZL 200710068478.8。