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时间:2009-12-23 16:54:41 访问次数:1741
专利名称: | 聚合物系中残留挥发份的脱除方法和装置 |
专利类型:
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发明专利 |
专利授予单位: | 中华人民共和国国家知识产权局 |
项目承担单位: | 浙江大学 |
项目完成人: | 潘勤敏,刘青,孙建中,李传清,谢芳宁,张淑芬 |
专利授予时间: | 2000年1月22日 |
专利简介: 本发明适应于挥发份沸点较高,脱挥比要求较高的高难度脱挥体系,如苯乙烯本体聚合工程中脱除反应单体。残留单体含量可达200ppm以下,使聚合物的质量明显提高。可在化工过程、高分子工业、涂料、精细化工等领域使用。 本项目于2000年1月22日被中华人民共和国国家知识产权局授予发明专利。专利号:ZL 97 1 13303.4。
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